工業檢測顯微鏡BM-56XBDS一、用途BM-56XBD D 電腦工業檢測顯微鏡是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的。作為**正置金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其超強性能，可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測，可觀察軟厚的標本。穩定、高品質的光學系統使成像更清晰，襯度更好。符合人機工程學要求的設計，使您在工作中感到舒適和放松。二、技術規格1、目鏡：類 別放 大 倍 數目視場直徑（mm）超寬視場平場目鏡10XΦ25目鏡(帶0.1mm十字分劃板）10XΦ202、物鏡：類 別放大倍數數值孔徑N.A(mm)系 統工作距離（mm）平場無限遠長工作距離明暗場物鏡5X0.10干29.410X0.2516.020X0.4010.640X0.605.403、顯微鏡的總放大倍率：物 鏡目 鏡鏡筒系數總放大倍數5X10X1X50X10X100X20X200X40X400X4、觀察頭：30° 鉸鏈式三目5、機械筒長：無限遠系統(∞)6、放大倍數：50X-400X（顯微鏡的總放大倍率：顯微鏡的總放大倍率=物鏡倍率×鏡筒系數倍率×目鏡倍率）7、轉換器：帶DIC插孔五孔轉換器8、瞳距調節范圍：50-75mm9、雙層移動平臺：（1）平臺尺寸：190mmX140mm（2）移動范圍：50×40mm10、調焦機構：粗、微動同軸調焦,采用齒輪齒條傳動機構，微動格值0.002mm11、偏光裝置：檢偏器可360度轉動，起偏器、檢偏鏡均可移出光路12、濾色片：插板式濾色片（藍、綠、中性）13、照明系統：帶孔徑光欄和視場光欄，12V50W鹵素燈，AC85V-230V，亮度可調節14、檢測工具：0.01mm測微尺15、計算機成像系統：(1)數字CMOS攝像機，500萬像素。帶幾何測量分析軟件。該軟件對點、線、圓及弧、直線度、圓度、面積等測量(2)MCL-Z 適配鏡(3)電腦自購三、選購1、 二維測量軟件2、 專業金相圖像分析軟件3、 鹵素燈12V100W4、 測微目鏡5、 平場無限遠長工作距離明/ 暗場物鏡：50X、80X、100X6、 精密載物臺：X-Y行程25 mmX25 mm,，移動精度<5 um，數顯手輪*小值：0.1um，360°旋轉度盤7、 DIC：10X、20X、40X、100X8、 壓平機

工業檢測顯微鏡BM-56XBD S一、用途BM-56XBD S 數碼工業檢測顯微鏡是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的。作為**正置金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其超強性能，可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測，可觀察軟厚的標本。穩定、高品質的光學系統使成像更清晰，襯度更好。符合人機工程學要求的設計，使您在工作中感到舒適和放松。二、技術規格1、目鏡：類 別放 大 倍 數目視場直徑（mm）超寬視場平場目鏡10XΦ25目鏡(帶0.1mm十字分劃板）10XΦ202、物鏡：類 別放大倍數數值孔徑N.A(mm)系 統工作距離（mm）平場無限遠長工作距離明暗場物鏡5X0.10干29.410X0.2516.020X0.4010.640X0.605.403、顯微鏡的總放大倍率：物 鏡目 鏡鏡筒系數總放大倍數5X10X1X50X10X100X20X200X40X400X4、觀察頭：30° 鉸鏈式三目5、機械筒長：無限遠系統(∞)6、放大倍數：50X-400X（顯微鏡的總放大倍率：顯微鏡的總放大倍率=物鏡倍率×鏡筒系數倍率×目鏡倍率）7、轉換器：帶DIC插孔五孔轉換器8、瞳距調節范圍：50-75mm9、雙層移動平臺：（1）平臺尺寸：190mmX140mm（2）移動范圍：50×40mm10、調焦機構：粗、微動同軸調焦,采用齒輪齒條傳動機構，微動格值0.002mm11、偏光裝置：檢偏器可360度轉動，起偏器、檢偏鏡均可移出光路12、濾色片：插板式濾色片（藍、綠、中性）13、照明系統：帶孔徑光欄和視場光欄，12V50W鹵素燈，AC85V-230V，亮度可調節14、檢測工具：0.01mm測微尺15、數碼相機系統：數碼相機、90度數碼適配鏡、轉接器三、選購1、 二維測量軟件2、 專業金相圖像分析軟件3、 鹵素燈12V100W4、 測微目鏡5、 平場無限遠長工作距離明/ 暗場物鏡：50X、80X、100X6、 精密載物臺：X-Y行程25 mmX25 mm,，移動精度<5 um，數顯手輪*小值：0.1um，360°旋轉度盤7、 DIC：10X、20X、40X、100X8、 壓平機

工業檢測顯微鏡BM-56XBD C一、用途BM-56XBD C 電腦工業檢測顯微鏡是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的。作為**正置金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其超強性能，可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測，可觀察軟厚的標本。穩定、高品質的光學系統使成像更清晰，襯度更好。符合人機工程學要求的設計，使您在工作中感到舒適和放松。二、技術規格1、目鏡：類 別放 大 倍 數目視場直徑（mm）超寬視場平場目鏡10XΦ25目鏡(帶0.1mm十字分劃板）10XΦ202、物鏡：類 別放大倍數數值孔徑N.A(mm)系 統工作距離（mm）平場無限遠長工作距離明暗場物鏡5X0.10干29.410X0.2516.020X0.4010.640X0.605.403、顯微鏡的總放大倍率：物 鏡目 鏡鏡筒系數總放大倍數5X10X1X50X10X100X20X200X40X400X4、觀察頭：30° 鉸鏈式三目5、機械筒長：無限遠系統(∞)6、放大倍數：50X-400X（顯微鏡的總放大倍率：顯微鏡的總放大倍率=物鏡倍率×鏡筒系數倍率×目鏡倍率）7、轉換器：帶DIC插孔五孔轉換器8、瞳距調節范圍：50-75mm9、雙層移動平臺：（1）平臺尺寸：190mmX140mm（2）移動范圍：50×40mm10、調焦機構：粗、微動同軸調焦,采用齒輪齒條傳動機構，微動格值0.002mm11、偏光裝置：檢偏器可360度轉動，起偏器、檢偏鏡均可移出光路12、濾色片：插板式濾色片（藍、綠、中性）13、照明系統：帶孔徑光欄和視場光欄，12V50W鹵素燈，AC85V-230V，亮度可調節14、檢測工具：0.01mm測微尺15、計算機成像系統：CCD攝像頭、CCD適配鏡、外置式圖像視頻采集卡(A/D)USB接口，(電腦自購)三、選購1、 二維測量軟件2、 專業金相圖像分析軟件3、 鹵素燈12V100W4、 測微目鏡5、 平場無限遠長工作距離明/ 暗場物鏡：50X、80X、100X6、 精密載物臺：X-Y行程25 mmX25 mm,，移動精度<5 um，數顯手輪*小值：0.1um，360°旋轉度盤7、 DIC：10X、20X、40X、100X8、 壓平機

工業檢測顯微鏡BM-56XBD一、用途BM-56XBD工業檢測顯微鏡是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的。作為**正置金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其超強性能，可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測，可觀察軟厚的標本。穩定、高品質的光學系統使成像更清晰，襯度更好。符合人機工程學要求的設計，使您在工作中感到舒適和放松。二、技術規格1、目鏡：類 別放 大 倍 數目視場直徑（mm）超寬視場平場目鏡10XΦ25目鏡(帶0.1mm十字分劃板）10XΦ202、物鏡：類 別放大倍數數值孔徑N.A(mm)系 統工作距離（mm）平場無限遠長工作距離明暗場物鏡5X0.10干29.410X0.2516.020X0.4010.640X0.605.403、顯微鏡的總放大倍率：物 鏡目 鏡鏡筒系數總放大倍數5X10X1X50X10X100X20X200X40X400X4、觀察頭：30° 鉸鏈式三目5、機械筒長：無限遠系統(∞)6、放大倍數：50X-400X（顯微鏡的總放大倍率：顯微鏡的總放大倍率=物鏡倍率×鏡筒系數倍率×目鏡倍率）7、轉換器：帶DIC插孔五孔轉換器8、瞳距調節范圍：50-75mm9、雙層移動平臺：（1）平臺尺寸：190mmX140mm（2）移動范圍：50×40mm10、調焦機構：粗、微動同軸調焦,采用齒輪齒條傳動機構，微動格值0.002mm11、偏光裝置：檢偏器可360度轉動，起偏器、檢偏鏡均可移出光路12、濾色片：插板式濾色片（藍、綠、中性）13、照明系統：帶孔徑光欄和視場光欄，12V50W鹵素燈，AC85V-230V，亮度可調節14、檢測工具：0.01mm測微尺三、選購1、 二維測量軟件2、 專業金相圖像分析軟件3、 鹵素燈12V100W4、 測微目鏡5、 平場無限遠長工作距離明/ 暗場物鏡：50X、80X、100X6、 精密載物臺：X-Y行程25 mmX25 mm,，移動精度<5 um，數顯手輪*小值：0.1um，360°旋轉度盤7、 DIC：10X、20X、40X、100X8、 壓平機

工業檢測顯微鏡BM-55XBD一、用途新型的BM-55XBD工業檢測顯微鏡是為工程領域＊＊測量的迫切需要而進行的專業創制，產品能提供更多的系統功能選擇與更高的操作性能，包括明視場、暗視場、偏振光、微分干涉相襯、工業熒光等顯微觀察模式，可配置手動或自動透反射工作平臺與精密光柵數顯影像檢測系統，能夠滿足不同用戶對新型檢測能力的不斷追求.二、技術規格1、基 座：花崗巖整體基座，外形尺寸：620mmX360mmX110mm2、目 鏡：10X大視野廣角目鏡，視場數Ф22mm3、物 鏡：類 型放大倍率數值孔徑工作距離（mm）無限遠明暗視場 平場消色差物鏡5X0.128.410X0.259.320X0.407.250X0.702.54、目鏡筒：正像觀察，雙目瞳距調節范圍：53~75mm，可100％推拉攝影5、調焦機構：手動粗微動同軸調焦, ＊小微動格值:0.002mm,粗動松緊可調,有效調焦范圍0～8mm,軸向平面內的垂直度不大于0.05mm。6、工作平臺 ：材質：優質灰鑄鐵，經時效消應力處理。＊大有效移動范圍：200mmX200mm縱橫向移動垂直度不大于0.05mm/200mm(無負載測量)玻璃工作臺面與縱橫向移動平面的平行度在有效觀察范圍內不大于0.03mm(無負載測量)＊大承載重量不大于10千克7、數據處理器：DP-100數據處理器，可與計算機并行連接，同步光柵信號輸出；示值誤差不大于0.003mm,回程誤差不大于0.005mm；工作電壓：220V 50/60HZ8、照明裝置： 落射照明采用12V50W鹵素燈，亮度及中心位置可調；落射照明器內置孔徑光闌、視場光闌、濾色片轉換裝置、明暗視場切換裝置，偏光觀察裝置；透射照明采用高亮度白光LED燈，亮度可調9、攝影裝置：采用300萬像素高清彩色CMOS芯片與液晶顯示器，具有手動/自動拍照，數據存儲與輸出功能。三、選配件1、目 鏡：10X大視野分劃目鏡，分劃格值0.1mm，視場數Ф20mm2、物 鏡：類 型放大倍率數值孔徑工作距離（mm）無限遠明暗視場 平場消色差物鏡40X0.603.060X0.751.980X0.800.80100X0.850.403、目鏡筒：三檔位三目頭，100％目鏡觀察，目視與攝影分光同步觀察（分光比為5：5或2：8），100％攝影觀察，可通過切換拉桿自由轉換。4、微分干涉相襯裝置：適配于5X，10X，20X明暗視場物鏡的微分干涉相襯拉板組件5、攝影裝置：DV-130/300/500/900/1400彩色數碼顯微攝像儀，附通用顯微圖像測量分析軟件；0.5X，1X，2.5X，2.5X～4X攝影接頭

工業檢測顯微鏡BM-54XBD S一、用途BM-54XBD S 數碼工業檢測顯微鏡配有大移動范圍的載物臺、落射照明器、平場無限遠長工作距離明暗物鏡、大視野目鏡、圖像清晰、襯度好。是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業開發的，作為**工業顯微鏡使用。可進行明暗場觀察、落射偏光、DIC觀察，廣泛用于工廠、研究機構、高等院校對硅片、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。二、特點1、采用了UIS高分辨率、長工作距離無限光路校正系統的物鏡成像技術2、拓展了物鏡的復用技術，無限遠物鏡與所有觀察法相兼容包括明暗視野法、偏光法，并在每一觀察法中均提供高清晰的圖像質量3、采用非球面Kohler照明，增加觀察亮度4、WF10X(Φ25mm)超大視野目鏡，長工作距離明暗場金相物鏡5、可插DIC微分干涉裝置的轉換器三、技術規格1、目鏡：類 別放 大 倍 數目視場直徑（mm）超寬視場平場目鏡10XΦ25目鏡(帶0.1mm十字分劃板）10XΦ202、物鏡：類 別放大倍數數值孔徑N.A(mm)系 統工作距離（mm）平場無限遠長工作距離明暗場物鏡5X0.10干29.410X0.2516.020X0.4010.640X0.605.403、顯微鏡的總放大倍率：物 鏡目 鏡鏡筒系數總放大倍數5X10X1X50X10X100X20X200X40X400X4、觀察頭：30°鉸鏈式三目5、轉換器：帶DIC 插孔明暗場五孔轉換器6、瞳距：50-75 mm7、雙層移動平臺：平臺尺寸：350×310 mm；移動范圍：250×250 mm8、濾色片：插板式濾色片（綠、藍、中性）9、調焦機構：粗微動同軸調焦,采用鹵輪鹵條傳動機構；微動格值0.002mm10、偏光裝置：檢偏鏡可360°轉動，起偏鏡、檢偏鏡均可移出光路11、檢測工具：0.01 mm測微尺12、光源： 落射照明：帶孔徑光欄和視場光欄，鹵素燈12V100W，AC85V-230V，亮度可調13、數碼相機系統：數碼相機、90度數碼適配鏡、轉接器